勻膠旋涂?jì)x在勻膠過(guò)程中可能會(huì )出現的問(wèn)題？
更新時(shí)間：2023-05-28 點(diǎn)擊次數：1518
勻膠旋涂?jì)x通過(guò)在片材保持器上產(chǎn)生負壓來(lái)吸收待旋涂在片材固定器上的基材，并且膠滴到基材表面上。離心力通過(guò)精確調節電機的轉速而改變。同時(shí)，膠水流由滴膠裝置控制，以達到薄膜制備所需的厚度。此外，膜厚度還取決于環(huán)境因素，如旋涂時(shí)間、膠水粘度、殘余涂層溫度和濕度。勻膠旋涂?jì)x廣泛應用于I砸EMS微加工，生物，材料等領(lǐng)域，它可以用來(lái)制備厚度小于10納米薄膜。也常應用在約1-100微米厚光刻膠沉積層的光刻工藝中。在使用過(guò)程中勻膠工藝常見(jiàn)問(wèn)題有：
1、表面出現氣泡可能原因：滴膠時(shí)膠中帶有氣泡；噴嘴*端切囗有問(wèn)題或帶刺問(wèn)題
2、四周呈現放射狀條紋可能原因：膠液噴射速度過(guò)高；設備排氣速度過(guò)高；膠涂覆前靜止時(shí)間過(guò)長(cháng)；勻膠機轉速或加速度設置過(guò)高；片子表片留有小顆粒膠中有顆粒
3、中心出現漩渦圖案可能原因：設備排氣速度過(guò)高；噴膠時(shí)膠液偏離襯底中心；旋圖時(shí)間過(guò)長(cháng)；加速度過(guò)高
4、中心出現圓暈可能原因：不合適的托盤(pán)，噴嘴偏離襯底中心
5、膠液未涂滿(mǎn)襯底可能原因：給膠量不足；不合適的勻膠加速度
6、出現針孔現象可能原因：空氣中粉塵；光刻膠內存在顆?；驓馀?；襯底上存在顆粒
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